美国政府将向初创光刻公司投资1.5亿美元，ASML迎来新挑战

　　自从美国初创公司 Substrate 向 ASML 发起挑战后，又一家初创公司 xLight 也将让 ASML 感受到压力。不过与 Substrate 不同，xLight 只是一家 EUV（极紫外线） 光源公司。

　　据路透社消息，特朗普政府将投资1.5亿美元入股 xLight 。与其说是投资，不如说是奖励，根据《芯片法案》的条款，xLight 可以获得光刻领域的奖励。不过今年，特朗普政府做了改进，把补贴变成投资，美国政府也因此成为英特尔的股东。

　　xLight 表示有了这笔资金，将能够开发出下一代 EUV 光源原型，预计2028年可以投入使用。

　　目前 ASML 使用高功率二氧化碳和其它激光器组合产生的激光光源，几乎垄断了 EUV 光刻机的市场，但是 xLight 采用了另一种生成激光的方法。由粒子加速器产生的电子，通过磁性“波荡器”后产生的自由电子激光。

　　xLight 表示，自由电子激光的输出功率相当于目前 EUV 激光的四倍，这将会提高未来晶圆的生产率和产量。

　　通过这个方法，单个自由电子激光的光源可以同时向20个 ASML 图案化系统提供极紫外光，也就是说一个电子激光光源可以同时支持20台 EUV 光刻机，这与当前的 EUV 光源形成了鲜明的对比。

　　自由电子激光还有一个特点，就是可以转换成比13.5nm 波长更短的光。

　　需要指出自由电子激光器非常巨大，差不多有足球场那么大。但是 xLight 表示，为了能够向晶圆厂提供光源，有办法进一步缩小占地面积。

　　xLihgt 表示，公司的目标是不是在晶圆厂外部建设一个小型的集成光源，而是类似于发电厂一样，向更多的项目提供光源。显然 xLight 不想成为一个单一的 EUV 光刻机的供应商，而想成为一个类似于公共事业的服务商。

　　虽然 xLight 开发 EUV 光刻机的光源，但是却不排斥 ASML ，因为目前 xLight 真正可以服务的对象只有 ASML 的 EUV 光刻机。

　　其实，ASML 的 EUV 技术也来自美国，在开发 EUV 光源以前，美国硅谷公司 Cymer 从事准分激光器的开发，2013年被 ASML 收购，从而让AMSL掌握了 EUV 光源的技术。

　　这也说明美国仍然掌握很多半导体制造的底层基础技术，现在美国在大陆发展芯片制造业，不仅仅是建几座工厂，而是要重新掌握半导体供应链。

　　对美国来讲，ASML 也是竞争对手，美国接二连三的出现 ASML 的挑战者，就不足为奇。

　　ASML 光盯着中国的光刻机企业，却忽视美国企业，有可能会迷失在未来的市场竞争中。

　　图片来源：unsplash、xLight